论文将高黏度污渍清洁重新定义为“聚集”问题,而非反复擦拭。Push-Wiper使用海绵沿分段推动轨迹逐步收拢污渍,再通过后处理脱离聚集物并实现海绵自清洁。结合Diffusion Policy、ASPI任意表面姿态插值器和混合力位控制,方法据称在多类污渍、固体残留、液体泼洒及曲面上实现零样本迁移,清洁分数最高较基线提升130%。
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