ASML 联合台积电、三星与英特尔推行大尺寸掩模版，华为加速推进自主光刻替代

ASML 已成功说服三星、台积电和英特尔改用更大尺寸的光罩，这有望将其最新 EUV 光刻机的产能提升 40%。与此同时，华为正在主导中国的应对策略，旨在通过设备制造商宇量昇及其自身的供应商体系，摆脱对荷兰光刻技术的依赖。文章《ASML深度绑定台积电、三星与英特尔，华为加速突围打破其控制》首发于 The Decoder。